镀铝膜光密度仪原理

光密度仪原理：光密度（OD）定义为材料遮光能力的表征。它用透光镜测量。光密度没有量纲单位，是一个对数值，通常仅对镀铝薄膜和珠光膜进行光密度测量。光密度是入射光与透射光比值的对数或者说是光线透过率倒数的对数。计算公式为OD=log10（入射光/透射光）或OD=log10（1/透光率）。
现代的真空镀膜技术中，真空蒸镀金属薄膜是在高真空条件下，以电阻、高频或电子束加热使金属熔融气化，在薄膜基材的表面附着而形成复合薄膜的一种工艺。被镀金属材料可以是金、银、铜、锌、铬、铝等，其中用的最多的是镀铝膜；目前镀铝膜层厚度可使用光密度仪来测量，检测镀铝膜的光度密度法就是需要使用到镀铝膜光密度仪，也叫镀铝膜光密度计。
通常镀铝膜的光密度值为1－3（即光线透过率为10%－0.1%），数值越大镀铝层越厚，美国国家标准局的ANSI/NAPM IT2.19对试验条件做了详细规定。
镀铝薄膜通常应用于具有阻隔性或遮光性要求的包装上使用，因此，镀铝层的厚度和表面状况以及附着牢度的大小将直接影响其上述性能。镀铝膜的检验主要体现在厚度、镀铝层牢度和镀铝层的表面状况等方面。
由于真空镀铝薄膜上的镀铝层非常薄，因此不能用常规的测厚仪器检测其厚度，常用的检测方法就是光密度法；LS117光密度仪应用而生。

所以，真空镀铝膜在生产线上就要控制好镀膜厚度的均匀性，如今市场上有专用便携式镀铝膜光密度仪，可以直接检测样片的光密度数值。