UV能量计在光刻技术中的应用

光刻技术是将掩模版上的图形，转移到涂有光致抗蚀剂（或者称光刻胶）的硅片上，通过一系列的生产步骤将硅片表面薄膜的特定部分除去的一种图形转移技术。主要用于制造半导体元件，印刷板，印刷电路板，液晶显示面板，等离子显示面板等。

根据曝光方式的不同，光刻机也主要分为接触式，接近式以及投影式3种。

接触式光刻机是最简单的光刻机，其优点是设备简单，分辨率高，没有衍射效应。而缺点是掩模版与涂有光刻胶的晶圆片直接接触，每次接触都会在晶圆片和掩模版上产生缺陷，降低掩模版的使用寿命，成品率比较低，不适合大规模的生产。

接近式的光刻机掩模版与光刻胶间隔10~50μm，所以缺陷大大减少，优点是避免晶圆片与掩模直接接触，缺陷少，缺点是分辨率下降，存在衍射的效应。

如今硅片光学曝光最主要的方法是投影式曝光，这种方法有接触式的分辨率，但不产生缺陷。

光刻设备主要采用的是汞灯作为曝光光源， 光源的波长对提高分辨率非常重要,利用UV能量计对固化光源的强度和能量进行检测，防止紫外线强度过高对分辨率产生重大影响。这也就是光刻曝光技术需要UV能量计参与的原因。

林上的UV能量计LS120和LS130都是高压汞灯固化专用的检测仪器。

UV能量计LS120可以检测紫外线灯的能量，功率和温度，还具有功率曲线和温度曲线图显示。

而UV能量计LS130则可以检测紫外线灯的能量和功率，具有功率曲线，还可以统计功率最大值，采用耐高温设计，可长时间运行在100摄氏度的环境中。