真空镀铝膜的介绍镀铝膜厚度检测
真空镀膜技术是真空应用技术的一个重要分支,它已广泛应用于光学、电子学、能源开发、理化仪器、建筑机械、包装、民用制品、表面科学以及科学研究领域中。真空镀膜所采用的方法主要有蒸发镀、溅射镀、离子镀、束流沉积镀以及束外延等。
可以对珠宝、钟表外壳表面、纺织品金属花纹、金丝银丝线等蒸镀装饰用薄膜,以及采用溅射镀或离子镀对刀具、模具等制造超硬膜。近两年内所兴起的多孤离子镀制备钛金制品,如不锈钢薄板、镜面板、包柱、扶手、高档床托架、楼梯栏杆等目前正在盛行。
真空蒸发镀是利用膜材加热装置的热能,在真空条件下,是膜材原子靠热运动而逸出膜材表面,并沉积到基片表面上去的一种沉积技术。然而在近年来这种技术又与离子掺入发相结合,挡具有一定动能的离子入射到用膜材所做的靶子表面上去以后,可将靶材原子击出而产生离子溅射效应。这时如果将基片放置到靶的附近,被溅射出来的靶材原子就会沉积到基片的表面上形成薄膜,这就是真空溅射镀膜技术。
以应用最广的真空蒸镀铝膜为例;其原理是在真空中将蒸镀材料加热蒸发产生蒸气,使其附着在基板上凝聚成薄膜。在两块玻璃上镀制高反射镀膜,整个光谱区域都有较高的反射率,对光的入射角和偏振态不敏感,成本低,易于蒸发,与玻璃的结合力强。
真空镀铝膜在生产过程中镀膜均匀性非常重要,镀膜层的厚度决定了镀膜产品的品质。随着科技的进步和精密仪器的应用,薄膜厚度测量方法有很多,其中最直接的方法是使用光密度在线测试仪测量,通过光接触直接感应出薄膜的透光率或者光密度。利用光密度与镀层厚度一定的比例关系,来检测镀层厚度的均匀性。
真空镀铝膜的缺点是不耐久,铝膜材质较软而容易氧化,反射率相对较低。通常用于背反射膜,当用于前反射膜时,一般其表面必须镀上保护膜。也可以镀上金属或非金属膜来提高在特定波长的反射率。
真空镀膜的原理比较简单,但具体生产过程中很多注意事项。另外由于镀膜非常薄,要求的工艺也比较高,除了注意真空室外还需要较多的辅助装置,如膜厚度在线检测装置、清洗装置、冷却装置等等。
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