镀铝膜的厚度均匀性测量

由于真空镀铝薄膜上的镀铝层非常薄，因此不能用常规的测厚仪器检测其厚度，目前测量镀铝膜的厚度均匀性的专用仪器是光密度仪。光密度仪原理是光密度法通过对薄膜透光率光学性能进行检测。
镀铝膜的厚度均匀性测量方法：
1、高倍电子显微镜直接测量，精确度为10E-10米，也就是0.1纳米（1米＝1000mm，1mm＝1000微米，1微米＝1000纳米，1纳米＝10埃米）。镀铝层的厚度一般为30埃米至800埃米之间。这个方法对镀铝层厚度方向上的断面取样手法要求极高，其精确度影响较大，但是所得数据是最为直接的物理测量。
2、方块电阻法测量，我国有国家标准：GB/T 15717-1995《真空金属镀层厚度测试方法电阻法》。此标准中有详细的方法描述，你有兴趣可以下载下来看看。这是一种模拟检测手段，有一定误差，尤其是对半透明镀铝膜的检测，简直无法进行。
3、用光密度计进行检测：目前这种仪器在物理学的原理方面是一样的，但是奇怪的是连美国都有两家公司生产的光密度计居然差别很大，一种是TOBIAS牌的，另一种是爱色丽（X-rite)生产的系列仪器。国内的光密度计就是林上科技的LS117光密度计；它是用光学透视的方法来换算镀铝层的厚度，也是一种模拟检测方法。这种仪器可以适用于半透明镀铝膜，也能适用于不透明镀铝膜。

4、用光密度仪进行检测，仪器很多，但全球标准都不统一，也是一种模拟检测方法，适用于半透明镀铝膜的检测。镀铝膜使用的检测仪还是选择光密度仪最为合适。