光密度检测在真空镀膜技术中的应用

真空镀膜实质上是在高真空状态下利用物理方法在镀件的表面上镀上一层薄膜的技术，它是一种物理现象。是置待镀材料和被镀基板于真空室内，采用一定方法加热待镀材料，使之蒸发或升华，并飞行溅射到被镀基板表面凝聚成膜的工艺；真空镀膜按其方式不同可分为真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜和现代发展起来的离子镀膜。真空镀膜在生产过程中镀膜厚度的均匀性能反应出镀膜产品品质，真空镀膜在线检测如今市场上已有专业的检测仪器---光密度在线检测仪。
一些光学零件的光学表面需要用物理方法或化学方法镀上一层或多层薄膜，使得光线经过该表面的反射光特性或透射性特性发生变化，许多机械加工所采用的刀具表面也需要沉积一层致密的、结合牢固的超硬镀层而使其得以硬化，延长其使用寿命，提高切削效率，从而改善被加工部件的精度和光洁度。目前，作为物理镀膜方法的真空镀膜，尤其是纳米级超薄膜制作技术，已广泛地应用在电真空、无线电、光学、原子学、空间技术等领域及我们的生活中。

真空镀膜其中有一种光密度法，光密度（OD）定义为材料遮光能力的表征；它用透光镜测量。光密度没有量纲单位，是一个对数值，通常仅对镀铝薄膜和珠光膜进行光密度测量。光密度和透光率成一定的反比关系，可以用公式来表示：OD=log10（入射光/透射光）或OD=log10（1/透光率）。即光密度是入射光与透射光比值的对数或者说是光线透过率倒数的对数。
通常镀铝膜的光密度值为1－3（即光线透过率为10%－0.1%），数值越大镀铝层越厚，美国国家标准局的ANSI/NAPM IT2.19对试验条件做了详细规定。
OD是optical density（光密度）的缩写，表示被检测物吸收掉的光密度，是检测方法里出现的专有名词。一般人理解较困难，具体检测涉及到很多物理等方面知识。你只须知道是阴性即可光通过被检测物，前后的能量差异即是被检测物吸收掉的能量，特定波长下，同一种被检测物的浓度与被吸收的能量成定量关系。检测单位用OD值表示，OD=1og（1/trans），其中trans为检测物的透光率值。