真空镀铝膜的介绍镀铝膜厚度检测

真空镀膜技术是真空应用技术的一个重要分支，它已广泛应用于光学、电子学、能源开发、理化仪器、建筑机械、包装、民用制品、表面科学以及科学研究领域中。真空镀膜所采用的方法主要有蒸发镀、溅射镀、离子镀、束流沉积镀以及束外延等。
       可以对珠宝、钟表外壳表面、纺织品金属花纹、金丝银丝线等蒸镀装饰用薄膜，以及采用溅射镀或离子镀对刀具、模具等制造超硬膜。近两年内所兴起的多孤离子镀制备钛金制品，如不锈钢薄板、镜面板、包柱、扶手、高档床托架、楼梯栏杆等目前正在盛行。
       真空蒸发镀是利用膜材加热装置的热能，在真空条件下，是膜材原子靠热运动而逸出膜材表面，并沉积到基片表面上去的一种沉积技术。然而在近年来这种技术又与离子掺入发相结合，挡具有一定动能的离子入射到用膜材所做的靶子表面上去以后，可将靶材原子击出而产生离子溅射效应。这时如果将基片放置到靶的附近，被溅射出来的靶材原子就会沉积到基片的表面上形成薄膜，这就是真空溅射镀膜技术。
       以应用最广的真空蒸镀铝膜为例；其原理是在真空中将蒸镀材料加热蒸发产生蒸气，使其附着在基板上凝聚成薄膜。在两块玻璃上镀制高反射镀膜，整个光谱区域都有较高的反射率，对光的入射角和偏振态不敏感，成本低，易于蒸发，与玻璃的结合力强。

       真空镀铝膜在生产过程中镀膜均匀性非常重要，镀膜层的厚度决定了镀膜产品的品质。随着科技的进步和精密仪器的应用，薄膜厚度测量方法有很多，其中最直接的方法是使用光密度在线测试仪测量，通过光接触直接感应出薄膜的透光率或者光密度。利用光密度与镀层厚度一定的比例关系，来检测镀层厚度的均匀性。
       真空镀铝膜的缺点是不耐久，铝膜材质较软而容易氧化，反射率相对较低。通常用于背反射膜，当用于前反射膜时，一般其表面必须镀上保护膜。也可以镀上金属或非金属膜来提高在特定波长的反射率。
       真空镀膜的原理比较简单，但具体生产过程中很多注意事项。另外由于镀膜非常薄，要求的工艺也比较高，除了注意真空室外还需要较多的辅助装置，如膜厚度在线检测装置、清洗装置、冷却装置等等。