影响真空蒸发镀膜厚度的因素

一般来说蒸发真空镀膜就是将靶材在真空的环境下加以高温，使其以原子团或者离子的形式被蒸发出来，然后在将基片防于真空仓中让这些原子团或离子沉淀在基片之上，在沉淀的过程中我们还能通过我们的需要来改变靶材的沉淀情况。
       光密度在线测试仪能在真空镀膜生产的过程中进行镀膜厚均匀性的监测；选择真空镀膜就是想要在基片上均匀的镀上膜，靶材厚度的均匀性就决定了镀膜的品质，镀膜生产过程中我们可以使用光密度在线测试仪来进行测试。

那么具体影响基片上的靶材厚度是否均匀的因素有哪些呢？
       首先对基片上的膜厚度就算是同一种物质都会出现分子结构不同的情况，而真空镀膜简单说来就是在一种物质覆盖另一种物质，如果这两种物质的分子结合能够很好的镶嵌在一起，那么对真空镀膜情况肯定是有很大好处的，反之亦然。
       然后基片表面的温度也是会影响真空镀膜厚度是否均匀的；基片的温度越高则镀膜效果越好，当然在真空镀膜的时候也会纯在一些特殊的材料，它们的镀膜情况则是基片温度越低镀膜效果会更好。
       另外，真空镀膜机的蒸发功率和速率也是影响真空镀膜情况一个较大的因素，这个因素想要改变的话只能在真空镀膜机上改善，因此想要通过加大真空镀膜设备的蒸发功率来改变镀膜情况是比较困难的。
       最后真空镀膜的时间和所需镀膜的厚度也是会影响到镀膜是的均匀行的一个因素。所以最有效的办法还是通过目前专业的光密度在线测试仪来连续测试镀膜厚度的均匀性是否达到标准。